Silane Deposition via Gas-Phase Evaporation and High-Resolution Surface Characterization of the Ultrathin Siloxane Coatings
- Silanabscheidung durch Gasphasenverdampfung und hochauflösende Oberflächencharakterisierung der ultradünnen Siloxanbeschichtungen
Munief, Walid-Madhat; Heib, Florian; Hempel, Felix; Lu, Xiaoling; Schwartz, Miriam; Pachauri, Vivek; Hempelmann, Rolf; Schmitt, Michael; Ingebrandt, Sven (Corresponding author)
Washington, DC : ACS Publ. (2018)
Fachzeitschriftenartikel
In: Langmuir / American Chemical Society
Band: 34
Heft: 35
Seite(n)/Artikel-Nr.: 10217-10229
Einrichtungen
- Lehrstuhl für Werkstoffe der Elektrotechnik I und Institut für Werkstoffe der Elektrotechnik [611510]
- Lehrstuhl für Mikro- und Nanosysteme und Institut für Werkstoffe der Elektrotechnik [612510]
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1021/acs.langmuir.8b01044
- RWTH PUBLICATIONS: RWTH-2019-05634