Polysilicon sacrificial layer etching using ClF3 for thin film encapsulation of silicon acceleration sensors with high aspect ratio
Metzger, Lars; Fischer, Frank; Mokwa, Wilfried
Amsterdam [u.a.] : Elsevier (2007)
Fachzeitschriftenartikel
In: Sensors and actuators / A, Physical
Band: 133
Heft: 1
Seite(n)/Artikel-Nr.: 259-265
Einrichtungen
- Lehrstuhl für Werkstoffe der Elektrotechnik I und Institut für Werkstoffe der Elektrotechnik [611510]
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1016/j.sna.2006.03.017
- RWTH PUBLICATIONS: RWTH-CONV-032924