Deposition of sputtered iridium oxide : influence of oxygen flow in the reactor on the film properties

Slavcheva, Evelina; Schnakenberg, Uwe; Mokwa, Wilfried

Amsterdam [u.a.] : Elsevier (2006)
Fachzeitschriftenartikel

In: Applied surface science
Band: 253
Heft: 4
Seite(n)/Artikel-Nr.: 1964-1969

Einrichtungen

• Lehrstuhl für Werkstoffe der Elektrotechnik I und Institut für Werkstoffe der Elektrotechnik [611510]